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        產(chǎn)品中心

        Product Center

        磁控濺射儀

        產(chǎn)品簡介

        KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

        產(chǎn)品型號(hào):
        更新時(shí)間:2024-03-27
        廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
        訪問量:12544
        詳細(xì)介紹在線留言
        品牌助藍(lán)科技濺射氣體詳詢
        樣品臺(tái)尺寸詳詢mm控制方式詳詢
        樣品倉尺寸詳詢mm靶材尺寸詳詢mm
        靶材材質(zhì)詳詢價(jià)格區(qū)間面議
        產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域電子

        KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

             目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個(gè)系列幾十款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括實(shí)驗(yàn)電爐   CVD供氣系統(tǒng)   等離子清洗機(jī)   小型離子濺射儀   磁控濺射儀 石英管真空封口   半導(dǎo)體檢測(cè)等。 主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

             公司與國內(nèi)高校,科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開放實(shí)驗(yàn)室,相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級(jí)工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力,科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時(shí)刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。



        控制方式

        7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

        濺射電源

        40KHz濺射電源

        鍍膜功能

        0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

        大功率

        ≤1000W

        大輸出電壓電流

        電壓≤1000V  電流≤1A

        極限真空

        機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

        濺射真空

        ≤30Pa

        擋板類型

        電控

        真空腔室

        石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

        樣品臺(tái)

        可旋轉(zhuǎn)φ62  (大可安裝φ50基底)

        樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

        8轉(zhuǎn)/分鐘

        樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

        40-105mm

        真空測(cè)量

        皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

        預(yù)留真空接口

        KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口





         

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