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        產(chǎn)品中心

        Product Center

        當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD銅靶材鍍膜濺射儀

        銅靶材鍍膜濺射儀

        產(chǎn)品簡介

        以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時,不可避免地會引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm時,會出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛),銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機,儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動控制,設(shè)計符合人體工程學(xué),所得結(jié)果一致,可重復(fù)性高。

        產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
        更新時間:2024-03-29
        廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
        訪問量:4028
        詳細介紹在線留言
        品牌鄭科探濺射氣體根據(jù)需求氣體
        樣品臺尺寸φ50mm控制方式觸摸屏智能控制
        樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
        靶材材質(zhì)金 鉑 銅 銀價格區(qū)間1-5萬
        產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域化工,電子

        銅靶材Cu target 鄭科探小型磁控濺射靶材鍍膜銅膜料顆粒銅

        以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時,不可避免地會引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm,會出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛)含量的增加,靶材裂紋的數(shù)量和電弧放電的數(shù)量會增加.因此,應(yīng)盡可能降低靶材中的雜質(zhì)含量,以提高薄膜的均勻性。

         

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        高純度銅靶材

         

        銅靶材鍍膜濺射儀

         

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        應(yīng)用領(lǐng)域:

        離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

        銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);

         

        控制方式

        7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

        濺射電源

        直流濺射電源

        鍍膜功能

        0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

        功率

        ≤1000W

        輸出電壓電流

        電壓≤1000V  電流≤1A

        真空

        機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

        濺射真空

        ≤30Pa

        擋板類型

        電控

        真空腔室

        石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

        樣品臺

        可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

        樣品臺轉(zhuǎn)速

        8轉(zhuǎn)/分鐘

        樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

        40-105mm

        真空測量

        皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

        預(yù)留真空接口

        KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




         

         

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